2024先进光刻技术研讨会

2024年5月16-18日，2024“中国光谷”光电子博览会暨论坛（以下简称“武汉光博会”）将于中国光谷科技会展中心举办。作为武汉光博会同期亮点论坛，“2024先进光刻技术研讨会”将再次闪亮登场。 

光刻机是集成电路制造的核心装备，其技术水平决定了集成电路的集成度。近年来，光刻机技术与光刻技术的进步，对中国集成电路产业的发展起到了非常重要的作用。在此背景下，“先进光刻技术研讨会”应运而生。

本次研讨会专注高端光刻技术，大咖阵容“加码”，话题热度“上新”，由中国工程院范滇元院士和陈学东院士领衔，汇聚了光刻领域多位学术界、产业界超级大咖，围绕材料、光源、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等关键技术进行交流分享，研讨即将面临的技术挑战和新的解决方案；为来自半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供一个良好的技术交流平台。

会议时间：2024年5月17日

会议地点：中国光谷科技会展中心 三楼大会议室1-1

执行承办：浙江大学、浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院微电子研究所、中国激光杂志社、上海意桐光电科技有限公司

荣誉主席

范滇元

中国工程院院士

中国科学院上海光学精密机械研究所

大会主席（按姓氏字母顺序）

王向朝

浙江大学教授

中国科学院上海光学精密机械研究所研究员

韦亚一

中国科学院大学特聘教授

中科院微电子研究所研究员

部分报告嘉宾（按姓氏字母顺序）

Keynote报告嘉宾

陈学东

中国工程院院士

华中科技大学智能制造装备与技术全国重点实验室常务副主任

报告题目：《高端光刻机动力学与减振技术及其产业化》

韦亚一中国科学院大学特聘教授

中国科学院微电子研究所研究员

报告题目：《先进IC制造中的计算光刻技术》

邀请报告嘉宾

丁程远中国科学院上海光机所研究员

报告题目：《EUV光源技术的发展趋势与挑战》

刘杰

湖南大学教授

报告题目：《面向掩模版制造的电子束光刻EDA技术》

王帆

御微半导体技术有限公司总经理

报告题目：《光学量检测设备助力IC制造良率提升》

杨国强

中国科学院化学研究所研究员

报告题目：《高分辨光刻胶的研究进展》

本次研讨会还增加了自由讨论环节，为参会嘉宾们提供更多深入沟通的机会。大家结合自身研究方向和经验，围绕光刻工艺、计算光刻、光刻胶、光刻机光源、环控等关键技术进行交流，碰撞出新的思维和想法。欢迎大家踊跃参会，与专家面对面交流。我们期待与您在武汉光谷相遇！ 

为做好会议筹备工作，使本次会议取得更好的效果，诚挚邀请各企业单位参与展示、赞助活动，期待与企业携手合作，共同推动光刻技术的发展和进步。